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  • 产品名称：UEX-F8142S-RTR-UVB-PAUVB光培养偏光平行UV曝光设备 UNILAM优尼光

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UEX-F8142S-RTR-UVB-PAUVB光培养偏光平行UV曝光设备 UNILAM优尼光UEX-F8142S-RTR-UVB-PAUVB光培养偏光平行UV曝光设备 UNILAM优尼光UEX-F8142S-RTR-UVB-PAUVB光培养偏光平行UV曝光设备 UNILAM优尼光
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韩国UNILAM，UVB光培养偏光平行UV曝光设备，UEX-F8142S-RTR-UVB-PA；

特点：
UVB（波长313nm）和UVA（波长365nm）光培养偏光平行UV曝光设备。
以UV（波长313nm）光源P波偏的平行光光源安装光培养偏光子然后通过薄膜进行方向0°，±45°，±135°倾斜度实行光培养。

应用：

•大面积OLED用1/4薄膜制造，垂直驱动液晶补偿薄膜，PLS模式LCD用光补偿薄膜制造。

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