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AMAYA天谷制作所MOCVD 气相沉积设备; Doctor-TTM • 8 英寸晶圆兼容 • 可 沉积金属氧化膜、金属氮化膜等 • 采用 砖利无氯气化器 • 拥有 4 种 MO 材料线 • 单室/双腔室 可选
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● 低温 (150~300°C) 处理 ● 形成 高品质的SiO2膜 低应力 、 无等离子体损伤 、 小颗粒 • 降低 导入和维护成本 小占地面积 、 无需 真空 · 等离子体处理 ● 价格低廉 气相沉积设备
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气相沉积设备 ● ±2%以内的膜厚均匀性 ● 低温工艺对应 ● 抑制 颗粒产生 ● 提高 维护性 ● 紧凑的装置结构 ● 提高 **性 ● 良好的台阶覆盖性
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156mm 方形/小时 1500 张吞吐量 • 通过采用 SiC 托盘解决重金属污染问题, 以及通过改进托盘支架进行背面旋转措施 气相沉积设备