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  • OTSUKA大塚电子苏州代理粒度分析仪ELSZ-2000S
    塔玛萨崎电子（苏州）有限公司OTSUKA大塚电子苏州代理粒度分析仪ELSZ-2000S，粒径测量仪，ZETA电位仪
  • OTSUKA大塚电子苏州代理粒度分析仪ELSZ-2000ZS
    塔玛萨崎电子（苏州）有限公司OTSUKA大塚电子苏州代理粒度分析仪ELSZ-2000ZS，粒径测量仪，ZETA电位仪
  • OTSUKA大塚电子苏州代理粒度分析仪SAQLA
    塔玛萨崎电子（苏州）有限公司OTSUKA大塚电子苏州代理粒度分析仪SAQLA、ELSZneo，粒径测量仪，ZETA电位仪
  • OTSUKA大塚电子苏州代理粒度分析仪 ELSZneoSE
    塔玛萨崎电子（苏州）有限公司OTSUKA大塚电子苏州代理粒度分析仪 ELSZneoSE、ELSZneo，粒径测量仪，ZETA电位仪
  • OTSUKA大塚电子苏州代理粒度分析仪ELSZneo
    塔玛萨崎电子（苏州）有限公司OTSUKA大塚电子苏州代理粒度分析仪ELSZneo，粒径测量仪，ZETA电位仪
  • 代理OTSUKA大塚电子半导体SIO测厚仪OPTM-F3
    塔玛萨崎电子（苏州）有限公司代理OTSUKA大塚电子半导体SiC测厚仪OPTM-F3，OTSUKA大塚半导体行业Si、氧化膜、氮化膜、SiC、SIO等检测
  • 代理OTSUKA大塚电子半导体SiC测厚仪OPTM-F2
    塔玛萨崎电子（苏州）有限公司代理OTSUKA大塚电子半导体SiC测厚仪OPTM-F2，OTSUKA大塚半导体行业Si、氧化膜、氮化膜、SiC、SIO等检测
  • OTSUKA大塚电子显微分光膜厚仪OPTM-F1代理
    塔玛萨崎电子（苏州）有限公司代理OTSUKA大塚电子显微分光膜厚仪OPTM-F1，OTSUKA大塚半导体行业Si、氧化膜、氮化膜、SiC、SIO等检测
  • OTSUKA大塚电子自动XY型OPTM-A2显微分光膜厚仪
    塔玛萨崎电子（苏州）有限公司代理OTSUKA大塚电子自动XY型OPTM-A2显微分光膜厚仪，OTSUKA大塚半导体行业Si、氧化膜、氮化膜、SiC、SIO等检测
  • OTSUKA大塚电子自动XY型OPTM-A1显微分光膜厚仪
    塔玛萨崎电子（苏州）有限公司代理OTSUKA大塚电子自动XY型OPTM-A1显微分光膜厚仪，OTSUKA大塚半导体行业Si、氧化膜、氮化膜、SiC、SIO等检测
  • Otsuka单元间隙检测装置RETS系列
    支持从反射/透射型 LCD 封闭单元到带彩色滤光片的空单元的各种单元
  • 苏州代理OTSUKA激活测量仪 RETS-100nx
    支持OLED用偏光板、层叠型相位差板、IPS液晶相位差板偏光板等各种薄膜的相位差测量装置。 实现与超高 Re.60000 nm 兼容的高速、高精度测量。 可以“无剥离”和“无损”测量薄膜的层压状态。 此外，它配备了简单的软件和校正功能，支持由于样品重新定位而导致的错位，从而实现简单且高精度的测量。
  • 苏州代理OTSUKA 线扫描膜厚仪在线式
    它是一种可以在在线薄膜生产现场测量薄膜厚度的设备。 通过将开创的光谱干涉仪与新开发的高精度膜厚计算处理技术相结合，可以以 0.01 秒的测量间隔以*短的。
  • 苏州代理OTSUKA光谱干涉晶片测厚仪SF-3
    在晶圆等的研磨和抛光过程中，晶圆和树脂的厚度以超高速和高精度非接触式测量。
  • 苏州代理 大冢电子光谱椭偏仪 FE-5000 / 5000S
    除了可以进行高精度薄膜分析的光谱椭偏仪外，我们还通过实现测量角度的自动可变机构来支持所有类型的薄膜。除了传统的旋转式光子检测器方法外，还通过提供相位差板的自动装卸机构提高了测量精度。
  • 苏州代理 大冢电子膜厚监测仪FE-300
    它是一种紧凑且价格低廉的薄膜厚度计，通过高精度光学干涉法实现薄膜厚度测量，操作简单。 我们采用一体式外壳，将必要的设备容纳在主体中，实现稳定的数据采集。 可以通过以低廉的价格获得优良反射率来分析光学常数。
  • 苏州代理日本Otsuka显微分光膜厚仪OPTM
    OPTM 是一种通过使用显微光谱法测量微小区域的优良反射率，实现高精度薄膜厚度和光学常数分析的设备。 各种薄膜、晶片、光学材料和多层薄膜等涂膜的厚度可以非破坏性和非接触方式测量。测量时间为1秒/点的高速测量是可能的。它还配备了软件，即使是初学者也可以轻松分析光学常数。
  • 苏州代理光纤动态光散射光度计 FDLS-3000
    使用固态激光器和高灵敏度检测器（冷却光电子双管），可以测量0.5纳米至5000纳米颗粒的粒度和粒度分布（粒度和粒度分布）。
  • OTSUKA大塚电子动态光散射光度计 DLS-6500series
    粒度/粒度分布（粒度/粒度分布）可以使用动态光散射法测量。
  • 苏州OTSUKA大冢电子动态光散射光度计 DLS-8000
    可以使用动态光散射法测量粒度/粒度分布（粒度/粒度分布）和使用静态光散射法测量优良分子量/惯性半径/秒维里系数。
  • OTSUKA大冢电子 高灵敏度差示折光仪 DRM-3000
    通过注射器方法可以很容易地进行样品注入。 数据处理很容易，因为控制和数据采集是从个人计算机执行的。 可以进行低噪音、高稳定性和良好再现性的测量。 通过静态光散射法测定重均分子量的 Dn / dc 测量 表面活性剂等胶束临界浓度（cmc）的测定 聚合物吸附量的测定 聚合物共聚物的成分分析 脂质体相变温度的测定等
  • OTSUKA大冢电子 nanoSAQLA带自动进样器 AS50
    nanoSAQLA的特点 1台轻松连续测定5个样品 实现了没有自动进样器难以实现的多个样品的连续测定 也可以通过改变每个样品的条件进行测量。 对应从精益到富的系统 标准测量时间为1分钟的高速测量 自动调整*佳测量位置，从浓缩样品到稀释样品，实现约1分钟的高速测量。 配备简易测量功能（一键即可开始测量） 软件简单易懂，无需任何复杂操作 内置非浸入式电池块，不分液 无污染 因为每个电池都是独立的，所以无需担心污染。 配备温度梯度功能 温度可轻松设置 ■ AS50的特点 连续测量多达 50 个样品 即使在测量过程中也可以添加样品 简单方便的样品组（一次*多可更换 50 个样品） 兼容有机溶剂（玻璃一次性电池） 样品容量至少 0.4 ml 测量范围（理论值） 粒径0.6nm～10μm 浓度范围 0.00001-40% 温度范围0-90°C *
  • OTSUKA多检体纳米粒径量测系统 nanoSAQLA
    一台5检体轻松连续量测 一键测定简易功能 对应低浓度到高浓度 标准测定时间一分高速测定 非浸入式、非分注式连续量测 搭载温度梯度(0 ~ 90℃) 对应多国语言操作介面(繁体中文、日文、英文、简体中文、韩文
  • OTSUKA大冢电子Zeta电位测量仪ELSZ-2000S
    *新的高灵敏度APD实现了更高的灵敏度和更短的测量时间 通过自动温度梯度测量可以进行退化/相变温度分析 可在 0 至 90°C 的宽温度范围内进行测量 增加了广泛的分子量测量和分析功能 支持悬浮高浓度样品的粒度测量 非常适合在界面化学、无机物、半导体、高分子、生物、制药、医药等领域中，不仅涉及微粒子，而且还涉及薄膜、平板等表面科学的基础研究和应用研究。
  • OTSUKA大冢电子Zeta电位测量仪ELSZ-2000Z
    *新的高灵敏度APD实现了更高的灵敏度和更短的测量时间 通过自动温度梯度测量可以进行退化/相变温度分析 可在 0 至 90°C 的宽温度范围内进行测量 支持悬浮高浓度样品的 zeta 电位测量 测量电池中的电渗流，并通过绘图分析提供高度准确的 zeta 电位测量结果。 支持高盐浓度溶液的zeta电位测量 支持小面积样品的平板zeta电位测量 非常适合在界面化学、无机物、半导体、高分子、生物、制药、医药等领域中，不仅涉及微粒子，而且还涉及薄膜、平板等表面科学的基础研究和应用研究。
  • OTSUKA大塚电子 粒径量测仪ELSZ-2000ZS
    特殊长度 *新的高灵敏度APD实现了更高的灵敏度和更短的测量时间 通过自动温度梯度测量可以进行退化/相变温度分析 可在 0 至 90°C 的宽温度范围内进行测量 增加了广泛的分子量测量和分析功能 支持悬浮高浓度样品的粒径和 zeta 电位测量 测量电池中的电渗流，并通过绘图分析提供高度准确的 zeta 电位测量结果。 支持高盐浓度溶液的zeta电位测量 支持小面积样品的平板zeta电位测量 采用 非常适合在界面化学、无机物、半导体、高分子、生物、制药、医药等领域中，不仅涉及微粒子，而且还涉及薄膜、平板等表面科学的基础研究和应用研究。 新型功能材料领域 燃料电池相关（碳纳米管、富勒烯、功能薄膜、催化剂、纳米金属）生物纳米 相关（纳米胶囊、树枝状大分子、DDS、生物纳米颗粒）、纳米气泡等。 陶瓷/着色材料 工业领域 陶瓷（二氧化硅/氧化铝/氧化钛等） 表面改
  • OTSUKA大冢电子zeta电位·粒径·分子量测系统 ELSZ-neo
    特殊长度 可以在从稀溶液到浓溶液 (~ 40%) * 1的宽浓度范围内测量粒度和 zeta 电位。 多角度测量能够以高分辨率测量粒度分布 高盐浓度下可测量平板样品的Zeta电位 可以使用静态光散射法测量粒子浓度 可通过动态光散射法进行微流变测量 可以通过测量凝胶样品的多个点来评估凝胶的网络结构和不均匀性。 使用标准流通池可以连续测量粒径和 zeta 电位。 可在 0 至 90°C 的宽温度范围内进行测量。 通过温度梯度功能可以对蛋白质等进行变性/相变温度分析 测量电池中的电渗流，并通过绘图分析提供高度准确的 zeta 电位测量结果。 可安装荧光截止滤光片（可选） 采用 它是表面化学、无机物质、生命科学、半导体、聚合物、生物学、药学和医学领域中涉及表面科学的基础研究和应用研究的理想选择。 新型功能材料领域 燃料电池相关（碳纳米管、富勒烯、纤维素纳米
  • 嵌入式膜厚仪FE-5000
    在高精度薄膜分析的光谱椭偏仪之上，增加安装了测量角度可自动变化装置,可对应所有种类的薄膜。在传统旋转分析仪法之上，通过安装相位差板自动分离装置，提高了测量精度。
  • 高速配光测量系统GP-7
    它是一种单独评估光源或光学材料光分布的设备。 实现10分钟的测量时间，颠覆分布测量常识！ 仅一次测量可捕获每个空间照度！ 支持其他公司的光学设计软件处理的数据格式！ 设备尺寸紧凑， 1.5平方米角落即可收纳！ 也可输出通用IES格式的配光数据！ 从光源的光分布测量到透镜和薄膜等材料的光学特性，拥有广泛的测量评估范围。
  • 相位差膜・光学材料检查设备　RETS-100
    对应范围广，从反射型・透过型type的已封入液晶的cell到带有彩色滤光片的空cell都可对应
  • 高灵敏度NIR量子效率测量系统QE-5000
    可以检测到单重态氧（活性氧） 　
  • 单粒子荧光诊断系统
    基于与NIMS共同开发的单颗粒诊断方法*的测量是可能的。 * 与国立材料科学研究所，弘前直人研究员和武田隆史研究员共同研究
  • 量子效率测量系统QE-2000 / 2100
    可以立即测量优良量子效率（优良量子产率）。与粉末，溶液，固体（薄膜）和薄膜样品兼容。低杂散光多通道光谱检测器大大减少了紫外线区域中的杂散光。另外，通过采用集成的半球单元，可以实现明亮的光学系统，并且通过利用此优势的再激发荧光校正，可以执行高精度的测量。此外，QE-2100能够测量量子效率的温度依赖性，并支持从紫外到近红外的宽波长范围。 　
  • 线扫描膜厚仪[离线型]
    该设备可以轻松地离线检查面内膜厚不均，以进行膜的研发和质量控制的抽样检查。 可以高速且高精度地测量整个表面。
  • 彩色滤光片光谱特性测量装置
    它是FPD生产过程中所有检查的理想选择，例如滤色片光学性能检查和玻璃基板薄膜厚度检查。
  • 参考测量仪RETS-100nx
    它是一种相位差测量设备，可支持所有类型的膜，例如OLED偏振片，层压相位差膜和带IPS液晶相位差膜的偏振片。 实现与超高Re.60000 nm兼容的高速，高精度测量。 可以“非破坏性地不剥离”地测定膜的层叠状态。 此外，它配备了简单的软件和校正功能，可支持由于样品重新定位而导致的未对准，从而实现了简单而高度**的测量。
  • 单元间隙检查装置RETS系列
    支持从反射/透射型LCD填充电池到带有彩色滤光片的空电池等各种电池
  • 紫外线分光光度测量系统
    “紫外光谱辐照度测量系统IL100”评估光源在紫外区域中的辐照度。 ・从分光光度计测量可高精度地测量照度・ 从紫外线到可见光的测量波长范围宽 ・可选择适合于高斜入射特性等应用的照度头·可 用于生物系统评估中不可缺少的PFD测量 它是一种即使在紫外线区域也可以实现高精度测量的设备。
  • 紫外分光光度计
    评估紫外线区域中光源的辐射度。 ・ 通过分光辐射度测量可以高精度地测量亮度・支持紫外，可见光和红外的宽波长测量范围・可以进行光生物学 **性评估 它是可以测量紫外线亮度的受限设备。
  • 紫外光谱光分布测量系统
    评估UV LED的光分布特性。 ・根据辐射强度/辐照度评估光分布 ・通过光谱光分布评估每个波长的辐射强度 可视化**和树脂固化光源的不均匀辐射。
  • 紫外线光谱总辐射通量测量系统
    评估UV LED的辐射通量。 ・高性能紫外线LED的输出评估・ 结合温度控制单元的温度评估 支持 UV-LED的 光学特性评估，该技术有望进行**，纯化和树脂固化。
  • 兼容装载口的膜厚测量系统GS-300
    它是一种具有图案匹配功能且XY定位精度为2um或更小的系统。
  • 高速相位差测量仪RE-200
    高精度控制光轴！3σ≤0.02°用于 低延迟测量
  • 线扫描膜厚仪[在线型]
    它是一种可以在薄膜生产现场在线测量薄膜厚度的装置。 通过将原来的光谱干涉法与*新开发的高精度膜厚计算处理技术相结合，可以以至少测量间隔至少测量500 mm宽度的膜的膜厚（使用一个单元时）。 0.01秒
  • 总光通量测量系统HM / FM系列
    它可以测量从LED到照明的各种光源的总光通量。 ・积分球+分光镜支持从总光通量到颜色测量的广泛范围 ·通过控制光源的加热/冷却可以评估温度特性 ·系统可以共同控制DC / AC电源。麻烦的操作所需的 测量精度是高集成度的半球，样本集易于 测量的瓦特级大功率激光源相应的 测量系统从多年的经验可以对应任何场景的总光通量测量，满足了需求。
  • 光谱分布测量系统GP系列
    一种测量照明设备的配光特性的设备。 ・使用内部开发的分光镜可以实现高精度的测量！ -可以与配光数据一起测量颜色！- 即使在光谱测量中，也可以实现相当于照度计的高速测量！ ・根据配光测量结果可以进行照明率分析！!! -符合标准的测量系统！ ・也可以由测量基准部门提供技术支持！ 该设备可处理从室内照明到泛光灯的各种照明设备，并满足多种用途的需求。
  • 超快光谱干涉型测厚仪
    它以超高速，实时，高精度的晶片和树脂非接触方式测量晶片等的研磨和抛光过程。
  • 光谱椭偏仪FE-5000 / 5000S
    除了可以进行高精度薄膜分析的椭圆偏振光谱仪之外，我们还通过实现自动可变测量机制来支持所有类型的薄膜。除了常规的旋转光子检测器方法之外，通过为延迟板提供自动连接/分离机制，还提高了测量精度。 　
  • 膜厚计FE-300
    它是一种紧凑且价格低廉的膜厚计，可通过高精度光学干涉仪以简单的操作实现膜厚测量。 我们采用了一体式的机壳，在主机中容纳了必要的设备，从而实现了稳定的数据采集。 通过以低价获得优良反射率可以分析光学常数。 　
  • 多通道光谱仪MCPD-9800
    多功能多通道光谱检测器，支持紫外线至近红外区域。光谱光谱至少可以在5毫秒内测量。标准光纤无需指定样品类型即可支持各种测量系统。除了显微光谱，光源发射，透射/反射测量之外，还可以通过与软件结合来支持对象颜色评估，膜厚测量等。
  • OTSUKA大冢高灵敏度光谱辐射仪HS-1000
    OTSUKA大冢高灵敏度光谱辐射仪HS-1000
  • 多通道光谱仪MCPD系列，用于膜厚测量
    多通道光谱仪MCPD系列，用于膜厚测量

苏公网安备 32050502000409号