产品中心
热门品牌展示
产品展示
  • 它是一种延迟测量设备,支持所有类型的薄膜,例如用于 OLED 的偏光板、层压延迟膜和带有 IPS 液晶延迟膜的偏光板。 实现与超高Re.60000 nm兼容的高速、高精度测量。 可以“无损、无剥离”地测量薄膜的层压状态。 此外,它还配备了简单的软件和校正功能,支持因样品重新定位而导致的错位,可轻松实现高精度测量。
  • 评估和分析不断发展的 FPD 制造过程中的各种薄膜
  • 它是一个具有模式匹配功能和 2um 或更小的 XY 定位精度的系统。
  • 在晶圆等的研磨研磨工序中,以超高速、高精度无接触地测量晶圆和树脂的厚度。
  • 是一种可以方便地离线检测面内膜厚不均匀性的设备,用于膜的研发和质量控制的抽检。 可以高速且高精度地测量整个表面。
  • 它是一种可以在薄膜生产现场在线测量薄膜厚度的设备。 通过将开创的光谱干涉技术与新开发的高精度膜厚计算处理技术相结合,可以以至少0.01的测量间隔测量宽度为500mm(使用一台时)的膜厚秒。
  • 日本大冢多通道分光光谱仪MCPD-6800 日本大冢多通道分光光谱仪MCPD-6800 日本大冢多通道分光光谱仪MCPD-6800
  • 日本大冢多通道分光光谱仪MCPD-9800 日本大冢多通道分光光谱仪MCPD-9800 日本大冢多通道分光光谱仪MCPD-9800
  • 日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000S 日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000S日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000S
  • 日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000
  • 日本大冢膜厚量测仪FE-300 日本大冢膜厚量测仪FE-300 日本大冢膜厚量测仪FE-300
  • 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/BB 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/BB 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/BB
  • 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/1300 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/1300 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/1300
  • 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/300 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/300 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/300
  • 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/200 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/200 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/200
  • 日本大冢分光干渉式晶圆膜厚仪SF-3 日本大冢分光干渉式晶圆膜厚仪SF-3 日本大冢分光干渉式晶圆膜厚仪SF-3
  • 日本大冢在线型线扫描膜厚仪 日本大冢在线型线扫描膜厚仪 日本大冢在线型线扫描膜厚仪
  • 日本大冢线扫描膜厚仪离线型 日本大冢线扫描膜厚仪离线型 日本大冢线扫描膜厚仪离线型
  • 日本大冢在线膜厚检测装置 日本大冢在线膜厚检测装置 日本大冢在线膜厚检测装置
  • 日本大冢显微分光OPTM SERIES膜厚仪OPTM-A3 日本大冢显微分光OPTM SERIES膜厚仪OPTM-A3 日本大冢显微分光OPTM SERIES膜厚仪OPTM-A3
  • 日本大冢显微分光膜厚仪OPTM SERIESOPTM-A2 日本大冢显微分光膜厚仪OPTM SERIESOPTM-A2 日本大冢显微分光膜厚仪OPTM SERIESOPTM-A2
  • 日本大冢OPTM SERIES显微分光膜厚仪OPTM-A1 日本大冢OPTM SERIES显微分光膜厚仪OPTM-A1 日本大冢OPTM SERIES显微分光膜厚仪OPTM-A1
  • 多通道光谱仪MCPD系列膜厚测量MCPD-7700 多通道光谱仪MCPD系列膜厚测量MCPD-7700 多通道光谱仪MCPD系列膜厚测量MCPD-7700
  • 膜厚测量MCPD系列多通道光谱仪MCPD-3700 膜厚测量MCPD系列多通道光谱仪MCPD-3700 膜厚测量MCPD系列多通道光谱仪MCPD-3700
  • MCPD系列膜厚测量多通道光谱仪MCPD-9800 MCPD系列膜厚测量多通道光谱仪MCPD-9800 MCPD系列膜厚测量多通道光谱仪MCPD-9800
  • 非接触式光学膜厚仪AT-5000 非接触式光学膜厚仪AT-5000 非接触式光学膜厚仪AT-5000
  • 非接触式光学膜厚仪AT-1500 非接触式光学膜厚仪AT-1500 非接触式光学膜厚仪AT-1500
  • FE-5700 OTSUKA大冢-膜厚测量系统 OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-5700OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-5700
  • FE-3700 OTSUKA大冢-膜厚测量系统 OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-3700OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-3700OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-3700
  • RH50 OTSUKA大冢-高速近场配光测量系统 对应微LED等微小样品的配光测定系统RH50.。 与光学模拟软件的联合是可能的,可以简单地高速取得2π空间全方位的光线。50×50mm尺寸以上请看GP-7 series。OTSUKA大冢-高速近场配光测量系统RH50OTSUKA大冢-高速近场配光测量系统RH50
  • SF-3Rθ OTSUKA大冢-高速晶圆厚度映射系统 *多可以快速映射12inch晶片OTSUKA大冢-高速晶圆厚度映射系统SF-3RθOTSUKA大冢-高速晶圆厚度映射系统SF-3RθOTSUKA大冢-高速晶圆厚度映射系统SF-3Rθ
  • SF-3Rθ OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统 搭载模式匹配功能,是X-Y定位精度2um以下的系统。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3RθOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3RθOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3Rθ
  • SF-3AAF OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统 搭载模式匹配功能,是X-Y定位精度2um以下的系统。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AAF
  • SF-3AA OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统 搭载模式匹配功能,是X-Y定位精度2um以下的系统。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AAOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AAOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AA
  • GS-300 OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统 搭载模式匹配功能,X-Y定位精度在2um以下的系统。OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统GS-300OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统GS-300OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统GS-300
  •  SF-3/200 OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计 用非接触的温哈和树脂的超高速实时、高精度的测量。OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/200
  •  SF-3/300 OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计 用非接触的温哈和树脂的超高速实时、高精度的测量。OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/300
  •  SF-3/1300 OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计 用非接触的温哈和树脂的超高速实时、高精度的测量。OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/1300OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/1300OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/1300
  •  SF-3/BB OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计 用非接触的温哈和树脂的超高速实时、高精度的测量。OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/BB
  •  AT-1500 OTSUKA大冢-非接触光学厚度计 OTSUKA大冢-非接触光学厚度计AT-1500OTSUKA大冢-非接触光学厚度计AT-1500OTSUKA大冢-非接触光学厚度计AT-1500
  • OTSUKA大冢-卓上型线扫描膜厚计OTSUKA大冢-卓上型线扫描膜厚计OTSUKA大冢-卓上型线扫描膜厚计
  •  AT-5000 OTSUKA大冢-非接触光学厚度计 OTSUKA大冢-非接触光学厚度计AT-5000OTSUKA大冢-非接触光学厚度计AT-5000OTSUKA大冢-非接触光学厚度计AT-5000
  • OTSUKA大冢-线扫描膜厚计 在线薄膜生产现场能够对薄膜的膜厚进行全幅、全长测量的装置。 通过在独自的分光干涉法中组合新开发的高精度膜厚演算处理技术,以每*短0.01秒的测定间隔,可以进行500mm宽(1台使用时)的薄膜的膜厚测定。OTSUKA大冢-线扫描膜厚计OTSUKA大冢-线扫描膜厚计
  •  FE-5000S OTSUKA大冢-分光器 除了能够高精度的薄膜解析的分光中,通过实现测量角度的自动可变机构,也对应于所有种类的薄膜。除以往的旋转检光子法之外,通过设置相位差版的自动脱穿机构,提高了测定精度。OTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000S
  •  FE-5000 OTSUKA大冢-分光器 除了能够高精度的薄膜解析的分光中,通过实现测量角度的自动可变机构,也对应于所有种类的薄膜。除以往的旋转检光子法之外,通过设置相位差版的自动脱穿机构,提高了测定精度。OTSUKA大冢-分光器FE-5000OTSUKA大冢-分光器FE-5000OTSUKA大冢-分光器FE-5000
  • OTSUKA大冢-嵌入式膜厚监视器 OTSUKA大冢-嵌入式膜厚监视器 高精度地实现具有波长依存性的多层膜测量!
  • MCPD series OTSUKA大冢-膜厚測定用多频道分光器MCPD seriesOTSUKA大冢-膜厚測定用多频道分光器MCPD seriesOTSUKA大冢-膜厚測定用多频道分光器MCPD series
  • FE-300 OTSUKA大冢-膜厚监视器 是一种通过简单操作实现高精度光干涉法的膜厚测量的小型低价格的膜厚计。 采用将必要的机器收纳在机身部位的一体化体型外壳,实现了稳定的数据的获取 通过获取低价位的优良反射率,也可以进行光学常数的分析。OTSUKA大冢-膜厚监视器FE-300OTSUKA大冢-膜厚监视器FE-300
  • FE-3000 OTSUKA大冢-反射性的分钟光膜厚计 利用显微的微小领域的优良反射率的取得,通过高精度的光干涉法的膜厚解析可能的装置。 多种多样的样品的膜厚·光,除了半导体领域的图案样品、透镜和钻孔之类的形状样品之外,还有表面粗糙度和膜厚不均的样品。能够进行定数分析。OTSUKA大冢-反射性的分钟光膜厚计FE-3000OTSUKA大冢-反射性的分钟光膜厚计FE-3000
  • OPTM series OTSUKA大冢- 显微分光膜厚计OPTM seriesOTSUKA大冢- 显微分光膜厚计OPTM seriesOTSUKA大冢- 显微分光膜厚计OPTM series

苏公网安备 32050502000409号