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OTSUKA大冢- 多检体纳米粒子直径测量系统
nanoSAQLA是由动态光散射法(DLS法)的粒子直径测量(粒子径0.6nm~10μm)装置。
还搭载了各种各样追求品质管理的需求的功能。
在稀薄~浓厚系为止在广浓度范围内实现了多检体测量对应的新光学系,用拉布必须的轻量·小型化,标准1分的高速测量。
另外,不受非浸染型的调谐器的影响,没有自动取景器的“5检体连续测量”的标准装备了新产品。
OTSUKA大冢- 多检体纳米粒子直径测量系统nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多检体纳米粒子直径测量系统nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多检体纳米粒子直径测量系统nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多检体纳米粒子直径测量系统nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多检体纳米粒子直径测量系统nanoSAQLA
特长:
1台简单地5检体连续测量
从稀薄到浓厚的关系
标准测量时间1分的高速测量
搭载简单测量功能(一个点击可以开始测量)
非浸泡型的单元格块内没有分注的转换器
搭载温度凹陷功能
- 粒子径 0.6nm~10μm
- 濃度範囲 0.00001~40%
- 温度範囲 0~90℃*
型式 | 多検体ナノ粒子径測定システム |
測定原理 | 動的光散乱法 |
光源 | 高出力半導体レーザー *1 |
検出器 | 高感度APD |
連続測定 | 5検体 |
測定範囲 | 0.6nm ~ 10μm |
対応濃度 | 0.00001 ~ 40% *2 |
温度 | 0 ~ 90℃ (温度グラジエント機能あり) *3 |
規格 |
ISO 22412:2017 準拠 JIS Z 8828:2013 準拠 JIS Z 8826:2005 準拠 |
サイズ | W240 X D480 X H375 mm |
重量 | 約18 kg |
ソフトウェア | 平均粒子径解析 (キュムラント法解析) |
粒度分布解析 (Marquardt法/NNLS/Contin法/Unimodal法) |
|
粒度分布重ね書き | |
逆相関関数・残差プロット | |
粒子径モニター | |
粒子径表示範囲 (0.1 ~ 106 nm) | |
分子量計算機能 |
*1 本装置はレーザーに関する**基準 (JIS C6802)のクラス1に区分される製品です。
*2 Latex120nm:0.00001 ~ 10%、タウロコール酸:~40%
*3 標準ガラスセルでのバッチ測定の場合。
ディスポセルや連続測定時は 15 ~ 40℃ (温度グラジエント非対応)
測定例
プリンタ用インクの粒度分布
ポリスチレンラテックス120nm(0.00001%)
タウロコール酸(40%)の粒度分布