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  • 产品名称：光谱椭偏仪FE-5000 / 5000S

  • 产品型号： FE-5000 / 5000S
  • 产品厂商：OTSUKA大塚电子
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简单介绍：
除了可以进行高精度薄膜分析的椭圆偏振光谱仪之外，我们还通过实现自动可变测量机制来支持所有类型的薄膜。除了常规的旋转光子检测器方法之外，通过为延迟板提供自动连接/分离机制，还提高了测量精度。 　
详情介绍：
特殊长度
  • 可以在紫外可见光（300-800 nm）波长范围内测量椭偏参数。
  • 可以进行纳米级的多层薄膜厚度分析
  • 通过多通道光谱仪可快速测量椭圆偏振光，可测量400通道或更多通道
  • 通过可变反射角测量支持对薄膜的详细分析
  • 通过创建光学常数数据库并添加配方注册功能来提高可操作性。

 

测量项目
  • 椭偏参数（tanψ，cosΔ）测量
  • 光学常数（n：折射率，k：消光系数）分析
  • 膜厚分析

 

测量目标
  • 半导体晶片
    栅极氧化物薄膜，氮化物膜
    SiO 2，Si x O y，SiN，SiON，SiN x，Al 2 O 3，SiN x O y，多晶硅，ZnSe，BPSG，TiN的
    光学常数（波长色散）抵抗
  • 化合物半导体
    Al x Ga （1-x）作为多层膜，非晶硅
  • FPD
    取向膜
  • 各种新材料
    DLC（类金刚石），超导薄膜，磁头薄膜
  • 光学薄膜
    TiO 2，SiO 2，减反射膜

  • 在每个波长下的光刻场n，k评估，例如g线（436 nm），h线（405 nm），i线（365 nm）

 

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