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  • 产品名称：苏州代理 大冢电子膜厚监测仪FE-300

  • 产品型号：
  • 产品厂商：OTSUKA大塚电子
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简单介绍：
它是一种紧凑且价格低廉的薄膜厚度计，通过高精度光学干涉法实现薄膜厚度测量，操作简单。 我们采用一体式外壳，将必要的设备容纳在主体中，实现稳定的数据采集。 可以通过以低廉的价格获得优良反射率来分析光学常数。
详情介绍：

产品信息

特殊长度
  • 支持从薄膜到厚膜的各种膜厚
  • 使用反射光谱的薄膜厚度分析
  • 实现非接触、非破坏的高精度测量，同时紧凑且价格低廉
  • 简单的条件设置和测量操作！任何人都可以轻松测量薄膜厚度
  • 可以通过峰谷法、频率分析法、非线性*小二乘法、优化法等进行多种薄膜厚度测量。
  • 通过非线性*小二乘膜厚分析算法可以进行光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）。

 

测量项目
  • 优良反射率测量
  • 膜厚分析（10层）
  • 光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）

 

测量对象
  • 功能膜、塑料
    透明导电膜（ITO、银纳米线）、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合剂、粘合剂、保护膜、硬涂层、防指纹， 等等。
  • 半导体
    化合物半导体、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、蓝宝石等
  • 表面处理
    DLC涂层、防锈剂、防雾剂等
  • 光学材料
    滤光片、AR涂层等
  • FPD
    LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有机膜、灌封胶）等
  • 其他


  • 硬盘驱动器、磁带、建筑材料等。

    规格

    规格
    类型 薄膜型 标准型
    测量波长范围 300-800nm 450-780nm
    测量膜厚范围
    （SiO 2换算）     		3nm-35μm 10nm-35μm
    光斑直径 φ3mm / φ1.2mm
    样本量 φ200 × 5 (H) mm
    测量时间 0.1-10s内
    电源 AC100V ± 10% 300VA
    尺寸、重量 280 (W) x 570 (D) x 350 (H) 毫米，24 公斤
    其他 参考板，配方创建服务

    设备配置

    光学家谱

    FE-300膜厚测量光学系统图

     

    软件画面


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