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  • 产品名称：SAMCO 等离子CVD设备 PD-220NL

  • 产品型号：
  • 产品厂商：SAMCO萨姆肯
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简单介绍：
虽然设计紧凑，可 沉积到 ±8 英寸晶圆上，但样品为 ±3 英寸晶圆，可同时沉积 5 个晶圆，4 英寸晶圆可同时形成 3 个薄膜，1 个 ±8 英寸晶圆可以沉积。
详情介绍：

概述

PD-220NL 是一种负载锁定设备，基于 PD-220 系列等离子 CVD 设备的经验而开发，该设备具有丰富的交付记录。 该装置设计紧凑，但基板有效直径为±220mm，通过托盘输送，可同时形成多个小直径晶圆。 我们旨在形成各种硅薄膜（SiO+、SiN 等），可处理从尖 端研究到大规模生产的各种应用。

特点

虽然设计紧凑，可
沉积到 ±8 英寸晶圆上，但样品为 ±3 英寸晶圆，可同时沉积 5 个晶圆，4 英寸晶圆可同时形成 3 个薄膜，1 个 ±8 英寸晶圆可以沉积。

配备负载
锁定室，可实现稳定的过程。

应用示例

可以形成
氮化硅膜、氧化硅膜和非晶硅膜，形成各种硅基薄膜。

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