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  • 产品名称：AMAYA天谷制作所小型生产和开发的常压 CVD 设备 D501

  • 产品型号：
  • 产品厂商：AMAYA天谷制作所
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简单介绍：
• 批量 常压 CVD 设备，用于在大型托盘中装载多个晶圆 气相沉积设备
详情介绍：
特点

这是一种批量式气相沉积设备
常压CVD装置，在大型托盘中装载多个晶圆，托盘在分散头下往复沉积。

可对应异形基板。

设备尺寸紧凑，占用空间小。

性能
薄膜厚度均匀性 取决于薄膜厚度和薄膜类型
支持的晶圆尺寸 以可加热区域为准
气体种类 SiH4, O2, PH3, B2H6, N2
(TEOS, TEB, TMOP, O3， TMA 可选）
沉积温度 350～450℃ (200～350℃)
生产力 ―
主要规格

设备尺寸 1200mm(W) x 2480mm(D) x 1940mm(H)
加热机构 电阻加热
卸载 手动方法
分散头
（气体喷嘴） 		A63 头
苏州代理AMAYA天谷制作所小型生产和开发的常压 CVD 设备 D501

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