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  • 产品名称：上海代理OTSUKA大塚无损非接触膜厚仪

  • 产品型号：FE-300
  • 产品厂商：OTSUKA大塚电子
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塔玛萨崎电子（苏州）有限公司上海代理OTSUKA大塚无损非接触膜厚仪FE-300薄膜厚度计，通过操作简单的高精度光学干涉测量实现薄膜厚度测量。
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塔玛萨崎电子（苏州）有限公司上海代理OTSUKA大塚无损非接触膜厚仪FE-300薄膜厚度计，通过操作简单的高精度光学干涉测量实现薄膜厚度测量。


OTSUKA大塚FE-300使用一体式外壳，在主机中存储必要的设备，以实现稳定的数据采集。

OTSUKA大塚FE-300特长

  • 支持从薄膜到厚膜的各种膜厚

  • 使用反射光谱的薄膜厚度分析

  • 实现非接触、非破坏的***测量，同时紧凑且价格低廉

  • 简单的条件设置和测量操作！任何人都可以轻松测量薄膜厚度

  • 可以通过峰谷法、频率分析法、非线性***小二乘法、优化法等进行多种薄膜厚度测量。

  • 通过非线性***小二乘膜厚分析算法可以进行光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）。

测量项目

反射率测量

  • 膜厚分析（10层）

  • 光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）

测量对象

  • 功能膜、塑料
    透明导电膜（ITO、银纳米线）、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合剂、粘合剂、保护膜、硬涂层、防指纹， ETC。

  • 半导体
    化合物半导体、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、蓝宝石等

  • 表面处理
    DLC涂层、防锈剂、防雾剂等

  • 光学材料
    滤光片、AR涂层等

  • FPD
    LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有机膜、灌封胶）等

  • 其他
    硬盘驱动器、磁带、建筑材料等。

测量原理

大冢电子使用光学干涉仪和我们自己的***分光光度计，实现了非接触、无损、高速和***的薄膜厚度测量。光学干涉法是一种利用OTSUKA大塚FE-300分光光度计的光学系统获得的反射率来确定光学膜厚的方法。以涂在金属基材上的薄膜为例，如图1所示，从目标样品上方入射的光被薄膜（R1）表面反射。此外，通过薄膜的光在基板（金属）和薄膜界面（R2）处反射。测量此时由于光程差引起的相移引起的光学干涉现象，并根据得到的反射光谱和折射率计算膜厚的方法称为光学干涉法。分析方法有四种：峰谷法、频率分析法、非线性***小二乘法和优化法。

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