产品中心
Samcoサムコ株式会社
  • Samcoサムコ株式会社 Samcoサムコ株式会社主要经营设备化学气相沉积原子层沉积等离子体CVD液态CVD®刻蚀ICP刻蚀深硅蚀刻反应离子刻蚀表面处理等离子清洗紫外线臭氧清洗Samcoサムコ株式会社原子层沉积(ALD)发现更多原子层沉积(ALD)是一种薄膜生长技术,能够为电子器件(电源和射频)沉积无针孔和均匀的绝缘体薄膜。ALD在高长宽比沟槽和通孔结构上提供了优异的保形性,在角级的厚度控制,以及基于连续、自限性反
    发布时间:2022-06-10 14:17 点击次数:644 次

苏公网安备 32050502000409号