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MA-60F日本MIKASA米卡萨光刻机 - MaskAligner

日期：2025-04-30 18:53
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摘要：MA-60F日本MIKASA米卡萨光刻机 - MaskAligner

MA-60F日本MIKASA米卡萨光刻机 - MaskAligner

■ MA-60F日本MIKASA米卡萨光刻机 - MaskAligner特点■ 手动操作、接触式对准曝光机。■ 依照不同需求以及成本考量・有准直仪型・多面镜型・整合（积算器）型三种曝光光源。■ 有可对应5×5mm~100×100mm以及1 inch~6 inch的基板的各类机种。■ Mask Holder・载台的更换作业简单易行，可在1分钟内完成，适合用于研究开发。■ 对准显微镜的对物镜可对应高对准精度或厚膜等用途，并且有4×、10×、20×三种。

■ MA-60F日本MIKASA米卡萨光刻机 - MaskAligner共通规格接触方法软性接触/ 硬性接触（ 部分选配）对准精度使用对物镜20×时<1.2μm（M-1S除外）对准显微镜双视野显微镜 对物镜间隔18~60mm（M-1S除外）曝光波长多频率（h.i.g线）

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