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日本DNK科研曝光机MA-4301M光刻机

主要特长利用本公司开创的高速图像处理技术, 实现了Wafer与掩膜的高精度对位。装载机侧和卸载机侧*多可设置两个篮具（选购项）。备有冷却机构，可进行基板台与掩膜的温度管理（选购项）。搭载本公司开创的镜面光学系统爆光灯房（LAMP HOUSE）。从而实现了照射面内的均匀性以及高照度。搭载非接触预对位系统（PREALIGNER）。从而实现了高精度进给且保证基板不受任何损伤。搭载有自动掩膜更换机。并可支持掩膜存放库。
日本DNK科研曝光机MA-4000光刻机

主要特长采用独自的平行调整机构,能够高精度地设定掩膜与Wafer间的近接间隙。利用独自的高速图像处理技术,实现高精度的对位。利用图像处理技术,使预对位可对应薄型基板或翘曲基板及水晶等易碎Wafer(选购项)。利用独自的接触压力精密控制机构,能够使Wafer与掩膜高精度地接触。通过Wafer的背面真空吸着方式,实现高速度和高精度以及稳定的自动搬送
日本DNK科研曝光机MA-1400光刻机

产品信息实验・研究用曝光装置简练设计的手动式整面单次曝光装置。主要特长对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产。可选择接触曝光(软接触、硬接触)和近接曝光。对应*大尺寸为500mm×500mm的基板。根据用途和基板尺寸,配置有*佳组合的光学系统。其中包括:超高压水银灯(500W､1kW､2kW､3.5kW)、各种光学镜、特殊镜头、聚光镜等
日本DNK科研曝光机MA-1200光刻机

产品信息实验・研究用曝光装置简练设计的手动式整面单次曝光装置。主要特长对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产。可选择接触曝光(软接触、硬接触)和近接曝光。对应*大尺寸为500mm×500mm的基板。根据用途和基板尺寸,配置有*佳组合的光学系统。其中包括:超高压水银灯(500W､1kW､2kW､3.5kW)、各种光学镜、特殊镜头、聚光镜等。