UV照射装置 ORC欧阿希 HMW-615N-4|塔玛萨崎电子（苏州）有限公司

搜索

热门搜索：

代理日本品牌：OTSUKA大塚电子（薄膜测厚仪、相位差膜设备等）、USHIO牛尾点光源、CCS检查光源、Aitec艾泰克、REVOX莱宝克斯、ONOSOKKI小野测器、YAMATO雅马拓、KOSAKA小坂台阶仪、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壶坂电机、NEWKON新光、TOKISANGYO东机产业、tokyokeiso东京计装、leimac雷马克、MIKASA米卡萨匀胶机、COSMO科斯莫、SAKURAI樱井无尘纸、TOE东京光电子、EYE岩崎UV灯管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV爱睦威地震仪、HOKUYO北阳电机、SAKAGUCHI坂口电热、ThreeBond三键胶水等.

产品中心

所在位置: 首页> 产品目录> ORC欧阿希> UV照射装置>

产品详情

查看大图

产品名称：UV照射装置 ORC欧阿希 HMW-615N-4
产品型号：
产品厂商：ORC欧阿希
产品价格：0
折扣价格：0
产品文档：

你添加了1件商品查看购物车

简单介绍：

UV照射装置 ORC欧阿希 HMW-615N-4UV照射装置 ORC欧阿希 HMW-615N-4UV照射装置 ORC欧阿希 HMW-615N-4 塔玛萨崎电子（苏州）有限公司系京都玉崎（日本）株式会社全资设立的中国子公司，自2014年成立以来，迅速崛起，专业从事国内贸易/国际贸易业务，主要经营光学设备、电子计测仪器、科学仪器、机械加工设备、环境试验设备、PC周边用品、作业工具用

详情介绍：

	半導体製造プロセス、液晶基板製造プロセス等微細なパターンを形成する工程において、基板の表面に残る有機物に、UVを照射して有機物汚染を非接触で除去する装置です。基板イダメージを与えずに表面の洗浄と改質が出来ます。		HMW-615N
		VUM-3073F

◆ 特　徴

1．	基板にダメージが少なく、有機物を分解する能力の高い独自の低圧ＵＶランプを搭載しています。
2．	基板を揺動するモードを利用すると、基板にUV光量が均等に照射されます。
3．	基板はあまり加熱されません。
4．	オゾンをカットする照射方式も、窒素ガスをパージする照射方式も適用できます。

◆ 仕　様

型式	HMW-615N-3	HMW-615N-4	VUM-3073F
使用ランプ	低圧ＵＶランプ VUV-080/A-3.6U･5灯	低圧ＵＶランプ VUV-100/A-5.3U･7灯	低圧ＵＶランプ VUV-040/A-2.2U･4灯
照射距離	25mm	25mm	15mm
照射面積	300^W X 300^D	400^W X 400^D	200^W X 200^D
照射時間	0～10min(可変)		0～99min59sec(可変)
排気ｵｿﾞﾝ除去	オゾン分解用フィルター使用
外形寸法	750^W X 700^DX 1,435^H 180kg		580^W X 500^DX 240^H 25kg

产品留言

标题

联系人

联系电话

内容

验证码

点击换一张

注：1.可以使用快捷键Alt+S或Ctrl+Enter发送信息!
2.如有必要,请您留下您的详细联系方式!

产品名称：UV照射装置 ORC欧阿希 HMW-615N-4