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  • 产品名称：近接曝光装置MA-5501ML 日本DNK苏州销售

  • 产品型号： MA-5501ML
  • 产品厂商：DNK 科研
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简单介绍：
主要特长 能够进行节拍时间约20秒(标准规格机，对位容许值设定为0.5μm时。不含曝光时间。)的高速曝光处理。 利用直读式间隙传感器与独自的控制系统,能够高速度和高精度地设定掩膜与基板间的近接间隙 。 可配置严格控制处理部位温度环境的温控机房。为了防止因热而引起的基板伸缩,还可选用基板台温度调控系统。 可选择配置基板台温度控制系统及掩膜冷却系统，以防止掩膜及玻璃基板因温度差而引起的伸缩。(选购项) 能够装载存放5张掩膜的掩膜存放库
详情介绍：

主要规格

  MA-5501ML MA-5701ML MA-5111ML
基板尺寸 370 x 470mm 550 x 650mm 730 x 920mm
对位 非接触预对位～自动对位
间隙 拥有传感性能
光源 超高压水银灯：2kW or 3.5kW or 5kW 超高压水银灯：10kW 超高压水银灯：18kW
外观尺寸及重量 本体尺寸 W2400 x D2480 x H2290mm
(另有控制箱、局部空调、冷水机) 		W3600 x D3870 x H2500mm
(另有控制箱、局部空调、冷水机) 		W7450 x D5000 x H3600mm
(另有控制箱、局部空调、冷水机)
本体重量 1500kg 1900kg 2000kg
光源重量 500kg 1100kg 3500kg
无尘机房重量 250kg 300kg
选购项 掩膜冷却、基板台温度调节、温控机房、特殊对位照明
用途 触摸屏、彩色滤光片、有机EL、C－STN、电子纸等

※基板尺寸和水银灯瓦数及特殊规格可商洽

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