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  • 产品名称：描画图形装置日本DNK苏州销售MX-1205

  • 产品型号： MX-1205
  • 产品厂商：DNK 科研
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简单介绍：
利用独自的高速描画「Point Array方式」技术直接描画图形的装置。 主要特长 能够用于研究开发、试作、小批量生产等的直描曝光。 能够对应半导体、电子零件、优异PCB、高密度封装件、MEMS、FPD等的曝光。 由于在光刻工艺中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低开发成本和缩短市场供应时间。 此外,还可以根据客户需求,提供相应的装置构造。
详情介绍：

主要规格

型式 MX-1201 MX-1201E MX-1205
*小线幅 (※1) [μm] 5 3 2 1
数据分辨率 [μm] 0.488 0.25 0.1 0.05
*大基板尺寸 [mm] 200 x 200 200 x 200 100 x 100
有效曝光范围 [mm] 200 x 200 200 x 200 100 x 100
激光主波长 [nm] 405 375 405 + 375 405 375 375
曝光扫描速度 [mm/s] 43.94 22.5 9 4.5
节拍时间 [s,min] 180 [s] 320 [s] 16 [min] 27 [min]
*大曝光量 [mJ/c㎡] 245 70 245 + 70 460 135 50 100

※1　因光刻胶和显影条件而异。

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