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  • 产品名称：日本DNK科研曝光机MA-5301ML光刻机

  • 产品型号： MA-5301ML
  • 产品厂商：DNK 科研
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简单介绍：
主要特长 搭载本公司开创的镜面光学系统爆光灯房（LAMP HOUSE）。从而实现了照射面内的均匀性以及高照度。 采用本公司开创的同轴对位方式和高速图像处理技术, 从而实现了高精度对位。还支持IR方式和背面方式。 通过本公司开创的光学式间隙传感器，可在非接触状态下高速、精的设定掩膜和基板间的近接间隙。 搭载有掩膜更换机。*多可自动更换20张掩膜。 *多可搭载3台片仓（Load port）。
详情介绍：

光刻机介绍

曝光装置  MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ø4″ ～ ø6″ 

光源 超高压水银灯 ：500W or 1kW

曝光装置 MA-1400  基板追大尺寸400 x 400mm

光源 超高压水银灯 ：2kW or 3.5kW

LED,LN曝光装置MA-4000 圆晶尺寸Ø2～4″或者Ø4～6″

光源 超高压汞灯：500W 或 1kW

Ø200mm/Ø150 mm 对应曝光装置MA-4301M   材料SI 玻璃， 对齐精度自动对齐：+/- 1 μm（
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Ø300mm对应曝光装置MA-5301ML  光源超高压汞灯：3.5kW  Ø200mm规格也可对应

マスクレス露光装置MX-1201 曝光扫描速度43.94mm/s  有效曝光区域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光装置MX-1201E  曝光扫描速度22.5mm/s  有效曝光区域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135

マスクレス露光装置MX-1205  曝光扫描速度9/4.5mm/s  有效曝光区域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50

主要规格

MA-5301ML
Wafer尺寸 Ø300ｍｍ
对位 非接触预对位～自动对位
光源 超高压水银灯：3.5kW
本体尺寸 W 2450 × D 2400 × H 2300 mm

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