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  • 产品名称：SAMCO ICP 蚀刻设备 RIE-100HiC

  • 产品型号：
  • 产品厂商：SAMCO萨姆肯
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简单介绍：
高密度等离子蚀刻装置，采用电感耦合等离子体（工业塑料广场）作为放电形式。 无负载锁室的设备配置可实现低成本和节省空间，同时配备 2 个盒式磁带。
详情介绍：

概述

高密度等离子蚀刻装置，采用电感耦合等离子体（工业塑料广场）作为放电形式。 无负载锁室的设备配置可实现低成本和节省空间，同时配备 2 个盒式磁带。

特点

• 4“ 平面内均匀性：± 1% 或更少，蚀刻速率：1μm/min 或更高

500 张连续加工的批次间稳定性：±0.6%

• 追求节省空间和低成本的大气输送平台

真空夹头式输送手在大气中高速输送

应用示例

SiO+ 接触孔加工

等离子去污

光刻胶灰化

表面改性

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