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  • 产品名称：代理Otsuka大塚电子椭圆偏振光测量仪FE-300

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  • 产品厂商：OTSUKA大塚电子
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简单介绍：
代理Otsuka大塚电子椭圆偏振光测量仪FE-300 多功能椭偏仪 椭偏仪系统 椭圆偏振光测量仪
详情介绍：

产品信息

特点
  • 支持从薄膜到厚膜的广泛薄膜厚度
  • 使用反射光谱进行薄膜厚度分析
  • 紧凑、低成本、非接触式、无损、高精度测量
  • 易于设置条件和测量操作！ 任何人都可以轻松测量薄膜厚度
  • 通过峰值巴雷法、频率分析法、非线性*小二乘法、优化法等多种膜厚度测量
  • 非线性*小二乘法的厚度分析算法允许光学常数分析（n：折射率、k：消光计数）

 

测量项目
  • **反射率测量
  • 薄膜厚度分析（10层）
  • 光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）

 

测量对象
  • 功能膜、塑料
    透明导电膜（ITO、银纳米线）、缓速膜、偏振膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合剂、粘合剂、保护膜、硬涂层、防指纹剂等。
  • 半导体
    化合物半导体、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、Sapphire 等。
  • 表面处理
    DLC 涂层、防锈剂、防雾剂等
  • 光学材料
    过滤器、AR 涂层等
  • FPD
    LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有机膜、密封剂）等
  • 其他
    硬盘、磁带、建筑材料等

 

原则

测量原理

Otsuka 电子采用光干涉法和内部制造的高精度分光光度计，可实现非接触式、无损和高速高精度薄膜厚度测量。 光干涉法是一种利用光学系统获得的反射率来确定光学厚度的方法，如图2所示。该光学系统使用光谱光度计获得光学厚度。 以涂覆在金属基板上的膜为例，从目标样品上方入射的光在膜表面反射（R1）。 此外，通过薄膜（R2）的光在基板（金属）或膜界面反射。 测量由光路差引起的相位偏移引起的光干涉现象，并从获得的反射光谱和折射率计算薄膜厚度的方法称为光干涉法。 有四种分析方法：峰巴雷法、频率分析法、非线性*小二乘法和优化法。

薄膜厚度测量原理图


规格

手势
测量波长范围 300～800nm
测量膜厚度范围
（SiO2转换） 		3nm～35μm
点直径 φ1.2mm
样本大小 φ200×5(H)mm
测量时间 0.1~10s以内
电源 AC100V±10% 300VA
尺寸、重量 280（W)×570（D)×350（H）mm、24kg
其他 参考板，食谱创建服务

 

 

软件屏幕


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