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  • 产品名称：AMAYA天谷制作所高性能单片式常压CVD装置A200V

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  • 产品厂商：AMAYA天谷制作所
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简单介绍：
气相沉积设备 ● ±2%以内的膜厚均匀性 ● 低温工艺对应 ● 抑制 颗粒产生 ● 提高 维护性 ● 紧凑的装置结构 ● 提高 **性 ● 良好的台阶覆盖性
详情介绍：
概述

在密封室中，晶圆的沉积表面通过上部夹头向下部保持并加热，
同时从底部的分散头吹出工艺气体。
通过夹紧，可以提高晶圆表面的温度均匀性，实现出色的薄膜厚度均匀性。
此外，通过防止气体进入晶圆背面，防止背面沉积，防止颗粒粘附在晶圆上和腔室中
。
设备尺寸尽可能紧凑，占用空间*小。
密封室消除了气体泄漏，提高了工人的**性。

性能
支持的晶圆尺寸 到 8 英寸
气体种类 SiH4, O2, PH3, B2H6, N2 (TEOS, TEB, TMOP, O3是可选的）
沉积温度 300～450℃
生产力 ~15张/小时（500nm成膜时）
规格

设备尺寸 890mm(W) x 2300mm(D) x 2250mm(H)
加热机构 电阻加热
卸载 双滑块，机器人 CtoC 输送
分散头
（气体喷嘴） 		圆形
武汉代理AMAYA天谷制作所高性能单片式常压CVD装置A200V

重庆代理AMAYA天谷制作所高性能单片式常压CVD装置A200V

云南代理AMAYA天谷制作所高性能单片式常压CVD装置A200V

山东代理AMAYA天谷制作所高性能单片式常压CVD装置A200V

浙江代理AMAYA天谷制作所高性能单片式常压CVD装置A200V

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