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产品详情
简单介绍:
塔玛萨崎电子(苏州)有限公司OTSUKA大塚 Zeta电位,粒径,分子量测量系统 ELSZneo
OTSUKA大塚椭圆光谱仪 FE-5000/5000S
详情介绍:
特征
- 可在紫外可见光(300~800nm)波长范围内进行椭圆参数测量。
- 能够对纳米量级的多层薄膜进行膜厚分析
- 通过 400 个或更多通道的多通道光谱快速测量椭圆光谱
- 用于薄膜详细分析的可变反射角测量
- 通过创建光学常数数据库和添加配方注册功能来提高可操作性
测量项目
- 椭圆参数 (tanψ, cosΔ) 测量
- 光学常数(n:折射率,k:消光系数)分析
- 膜厚分析
测量对象
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半导体晶片
栅极氧化薄膜、氮化物薄膜
SiO2,Si x Oy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3罪xOy,多晶硅,硒化锌,BPSG,TiN
光刻胶光学常数(波长色散) -
化合物半导体
铝x加语(1-x)作为多层,非晶硅 -
FPD
取向膜 -
各种新材料
DLC(类金刚石碳)、超导薄膜、磁头薄膜 -
光学薄膜
TiO2,SiO2,防反射膜 -
在 G 线 (436nm)、H 线 (405nm) 和 I 线 (365nm)
等波长下进行光刻 N,K 评估
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