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产品详情
简单介绍:
OTSUKA大塚电子椭圆偏振光谱仪代理 FE-5000塔玛萨崎电子(苏州)有限公司 FE-5000除了可实现高精度薄膜分析的椭圆偏振光谱外, FE-5000还可以通过实施自动可变测量角度机制来处理所有类型的薄膜。 除了传统的旋转分析仪方法外,通过安装自动延迟板分离机构提高了测量精度。
详情介绍:
OTSUKA大塚电子椭圆偏振光谱仪代理 OTSUKA大塚电子塔玛萨崎电子(苏州)有限公司 FE-5000除了可实现高精度薄膜分析的椭圆偏振光谱外, FE-5000还可以通过实施自动可变测量角度机制来处理所有类型的薄膜。 除了传统的旋转分析仪方法外,通过安装自动延迟板分离机构提高了测量精度。
塔玛萨崎电子代理OTSUKA大塚电子 FE-5000
测量对象
-
半导体晶片
栅极氧化薄膜、氮化物薄膜
SiO2,Si x Oy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3罪xOy,多晶硅,硒化锌,BPSG,TiN
光刻胶光学常数(波长色散) -
化合物半导体
铝x加语(1-x)作为多层,非晶硅 -
FPD
取向膜 -
各种新材料
DLC(类金刚石碳)、超导薄膜、磁头薄膜 -
光学薄膜
TiO2,SiO2,防反射膜 -
在 G 线 (436nm)、H 线 (405nm) 和 I 线 (365nm)
等波长下进行光刻 N,K 评估
测量项目
- 椭圆参数 (tanψ, cosΔ) 测量
- 光学常数(n:折射率,k:消光系数)分析
- 膜厚分析
-
型 FE-5000S FE-5000 样本量 *大 100x100mm *大 200x200mm 测量方法 旋转分析仪法*1 测量膜厚度范围(nd) 0.1纳米~1微米 入射(反射)角度范围 45~90° 45~90° 入射(反射)角度驱动系统 自动标志杆驱动系统 入射光斑直径*2 φ2.0 φ1.2苏普*3 tanψ 测量精度 ±0.01以下 cosΔ 测量精度 ±0.01以下 薄膜厚度的可重复性 0.01%以下*4 波长范围*5 300~800nm 300~800nm 测量光源 高稳定性氙气灯*6 舞台驱动系统 手动 手动/自动 装载机支持 坏 差强人意 尺寸、重量 650(宽)×400(深)×593(高)毫米
50公斤1300(宽)×890(深)×1750(高)毫米
350公斤*7*1 可以驱动偏光片,可以安装和拆卸对盲区有效的减速板。
*2 因短轴和角度而异。
*3 微光斑支持(可选) *4 此值是使用 VLSI 标准 SiO2 薄膜 (100 nm)
时的值。
*5 选择自动阶段时的值。
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