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FE-3000 OTSUKA大冢-反射性的分钟光膜厚计 利用显微的微小领域的优良反射率的取得，通过高精度的光干涉法的膜厚解析可能的装置。 多种多样的样品的膜厚·光，除了半导体领域的图案样品、透镜和钻孔之类的形状样品之外，还有表面粗糙度和膜厚不均的样品。能够进行定数分析。OTSUKA大冢-反射性的分钟光膜厚计FE-3000OTSUKA大冢-反射性的分钟光膜厚计FE-3000
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OPTM series OTSUKA大冢- 显微分光膜厚计OPTM seriesOTSUKA大冢- 显微分光膜厚计OPTM seriesOTSUKA大冢- 显微分光膜厚计OPTM series
