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  • 产品名称:浙江OTSUKA大塚电子椭圆偏振光谱仪

  • 产品型号: FE-5000S
  • 产品厂商:OTSUKA大塚电子
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简单介绍:
OTSUKA大塚电子椭圆偏振光谱仪代理 FE-5000S塔玛萨崎电子(苏州)有限公司 FE-5000S除了可实现高精度薄膜分析的椭圆偏振光谱外, FE-5000S还可以通过实施自动可变测量角度机制来处理所有类型的薄膜。 除了传统的旋转分析仪方法外,通过安装自动延迟板分离机构提高了测量精度。  
详情介绍:

OTSUKA大塚电子椭圆偏振光谱仪代理 OTSUKA大塚电子塔玛萨崎电子(苏州)有限公司 FE-5000S除了可实现高精度薄膜分析的椭圆偏振光谱外, FE-5000S还可以通过实施自动可变测量角度机制来处理所有类型的薄膜。 除了传统的旋转分析仪方法外,通过安装自动延迟板分离机构提高了测量精度。

塔玛萨崎电子代理OTSUKA大塚电子  FE-5000S

测量对象
  • 半导体晶片
    栅极氧化薄膜、氮化物薄膜
    SiO
    2,Si x Oy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3xOy,多晶硅,硒化锌,BPSG,TiN
    光刻胶光学常数(波长色散)
  • 化合物半导体
    x加语(1-x)作为多层,非晶硅
  • FPD
    取向膜
  • 各种新材料
    DLC(类金刚石碳)、超导薄膜、磁头薄膜
  • 光学薄膜
    TiO
    2,SiO2,防反射膜
  • 在 G 线 (436nm)、H 线 (405nm) 和 I 线 (365nm)
    等波长下进行光刻 N,K 评估
塔玛萨崎电子代理OTSUKA大塚电子  FE-5000S


测量项目
  • 椭圆参数 (tanψ, cosΔ) 测量
  • 光学常数(n:折射率,k:消光系数)分析
  • 膜厚分析
  • FE-5000S FE-5000
    样本量 *大 100x100mm *大 200x200mm
    测量方法 旋转分析仪法*1
    测量膜厚度范围(nd) 0.1纳米~1微米
    入射(反射)角度范围 45~90° 45~90°
    入射(反射)角度驱动系统 自动标志杆驱动系统
    入射光斑直径*2 φ2.0 φ1.2苏普*3
    tanψ 测量精度 ±0.01以下
    cosΔ 测量精度 ±0.01以下
    薄膜厚度的可重复性 0.01%以下*4
    波长范围*5 300~800nm 300~800nm
    测量光源 高稳定性氙气灯*6
    舞台驱动系统 手动 手动/自动
    装载机支持 差强人意
    尺寸、重量 650(宽)×400(深)×593(高)毫米
    50公斤
    1300(宽)×890(深)×1750(高)毫米
    350公斤
    *7

    *1 可以驱动偏光片,可以安装和拆卸对盲区有效的减速板。
    *2 因短轴和角度而异。
    *3 微光斑支持(可选) *4 此值是使用 VLSI 标准 SiO2 薄膜 (100 nm)
    时的值。
    *5 选择自动阶段时的值。



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