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  • 光谱辐照度测量系统Otsuka大冢
    “光谱辐照度测量系统 IL100”评估光源的照度。 ・从光谱辐照度测量中高精度测量照度 ・ 从紫外线到可见光和红外线的宽测量波长范围・ 可选择的照度头适用于高斜入射特性等应用 ・光合作用研究必不可少的PFD和PPFD 可 通过专用软件进行测量和照明 电源也是集体控制 这个设备追求到精良的基础照度测量。
  • 紫外光谱仪Otsuka大冢苏州售
    评估光源在紫外线区域的辐射。 ・ 通过光谱辐射度测量高精度测量亮度 ・ 支持紫外线、可见光和红外线的宽测量波长范围 ・ 可以进行光生物 **性评估 它是一种可以测量紫外线亮度的有限设备。
  • 紫外光谱辐照度测量系统Otsuka
    “紫外分光辐照度测量系统IL100”评估光源在紫外区的辐照度。 ・从光谱辐照度测量中高精度测量照度 ・ 从紫外线到可见光的宽测量波长范围 ・可选择的照度头适用于高斜入射特性等应用 ・可以进行生物系统评估必不可少的PFD测量 它是一种即使在紫外线区域也能实现高精度测量的设备。 产品咨询
  • 紫外分光光度分布测量系统Otsuka
    评估 UV LED 的光分布特性。 ・基于辐射强度/辐照度的光分布评估 ・通过光谱光分布评估每个波长的辐射强度 可视化用于**和树脂固化的光源的不均匀照射。
  • 总辐射通量测量系统Otsuka大冢
    评估 UV LED 的辐射通量。 ・ 性能更高的紫外线 LED 的输出评估 ・ 温度评估与温度控制单元相结合 支持 紫外线 LED 的 光学特性评估，预计将被**、净化和树脂固化。
  • 总光通量测量系统 HM / FM Otsuka大冢
    它测量从 LED 到照明的各种光源的总光通量。 ・积分球+分光镜支持从总光通量到颜色测量的广泛范围。 ・可以通过控制光源的加热/冷却来评估温度特性 。繁琐操作要求 测量精度高集成半球，样品组方便 测量大功率激光光源瓦级对应 测量系统对应任何场景总光通量测量多年经验，满足需求支持。
  • 光谱配光测量系统GPOtsuka大冢电子
    一种测量照明设备配光特性的装置。 ・使用内部开发的分光镜实现高精度测量！ -颜色可以与光分布数据一起测量！- 即使在光谱测量中也可实现相当于照度计类型的高速测量！ ・可根据配光测量结果进行照度分析！!! -符合标准测量系统！
  • 装载端口兼容薄膜厚度测量系统 GS-300Otsuka
    它是一个具有模式匹配功能和 2um 或更小的 XY 定位精度的系统。
  • 晶圆测厚仪SF-3Otsuka大冢苏州售
    在晶圆等的研磨研磨工序中，以超高速、高精度无接触地测量晶圆和树脂的厚度。
  • 线扫描测厚仪离线式 Otsuka大冢
    是一种可以方便地离线检测面内膜厚不均匀性的设备，用于膜的研发和质量控制的抽检。 可以高速且高精度地测量整个表面。
  • 线扫描测厚仪在线式 Otsuka大冢
    它是一种可以在薄膜生产现场在线测量薄膜厚度的设备。 通过将开创的光谱干涉技术与新开发的高精度膜厚计算处理技术相结合，可以以至少0.01的测量间隔测量宽度为500mm（使用一台时）的膜厚秒。
  • 非接触式光学深度计 Emios Otsuka大冢
    “一步操作”是一种追求用户友好性的设备，无需任何繁重的工作，设置样品即可立即看到结果。 该设备旨在缩短检测过程，无需校准曲线即可高精度、高分辨率地轻松找到优良厚度。 由于使用了大冢电子开创的光学方法，因此可以在不接触的情况下高精度测量不透明、粗糙表面和容易变形的样品，同时节省空间。
  • 超快光谱干涉式测厚仪Otsuka大冢
    它以非接触方式测量晶片等的研磨和抛光过程，具有超高速、实时和高精度的晶片和树脂。
  • 光谱椭偏仪 FE-5000 / 5000S Otsuka大冢
    除了可实现高精度薄膜分析的光谱椭偏仪外，我们还通过实施自动可变测量机制支持所有类型的薄膜。除了传统的旋转光子检测器方法外，还通过为延迟板提供自动安装/拆卸机制来提高测量精度。
  • 嵌入式膜厚监控器Otsuk大冢苏州售
    实现具有波长依赖性的高精度多层膜测量
  • 膜厚监测仪 FE-300 Otsuka大冢苏州售
    它是一种紧凑、低成本的薄膜厚度计，它通过简单的操作实现了高精度光学干涉测量的薄膜厚度测量。 我们采用一体式外壳，将必要的设备安装在主体中，实现了稳定的数据采集。 通过以低廉的价格获得**反射率，可以分析光学常数。
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