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  • OTSUKA大冢-量子点评系统 量子点材料具有根据粒子直径不同发光波长发生变化的特性。 在本系统中,在评价粒子直径以及分散稳定性的同时,也可以对荧光特性进行评价。 OTSUKA大冢-量子点评系统OTSUKA大冢-量子点评系统OTSUKA大冢-量子点评系统
  • 日本大冢低相位差高速检查设备RE-200 日本大冢低相位差高速检查设备RE-200 日本大冢低相位差高速检查设备RE-200
  • OTSUKA大冢液晶层间隙量测设备RETS series OTSUKA大冢液晶层间隙量测设备RETS series OTSUKA大冢液晶层间隙量测设备RETS series
  • 日本OTSUKA大冢相位差膜・光学材料检查设备RETS-100 日本OTSUKA大冢相位差膜・光学材料检查设备RETS-100 日本OTSUKA大冢相位差膜・光学材料检查设备RETS-100
  • 支持从反射/透射型 LCD 填充单元到带滤色器的空单元的各种单元
  • 非常适合FPD生产过程中的所有检测,如滤色片光学特性检测和玻璃基板膜厚检测。
  • “一步操作”是一种追求用户友好性的设备,无需任何繁重的工作,设置样品即可立即看到结果。 该设备旨在缩短检测过程,无需校准曲线即可高精度、高分辨率地轻松找到优良厚度。 由于使用了大冢电子开创的光学方法,因此可以在不接触的情况下高精度测量不透明、粗糙表面和容易变形的样品,同时节省空间。
  • 它以非接触方式测量晶片等的研磨和抛光过程,具有超高速、实时和高精度的晶片和树脂。
  • 除了可实现高精度薄膜分析的光谱椭偏仪外,我们还通过实施自动可变测量机制支持所有类型的薄膜。除了传统的旋转光子检测器方法外,还通过为延迟板提供自动安装/拆卸机制来提高测量精度。
  • 实现具有波长依赖性的高精度多层膜测量
  • 它是一种紧凑、低成本的薄膜厚度计,它通过简单的操作实现了高精度光学干涉测量的薄膜厚度测量。 我们采用一体式外壳,将必要的设备安装在主体中,实现了稳定的数据采集。 通过以低廉的价格获得**反射率,可以分析光学常数。
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