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  • 日本大冢高速LED光学特性仪 LE-SERIES-LE-5400 日本大冢高速LED光学特性仪 LE-SERIES-LE-5400 日本大冢高速LED光学特性仪 LE-SERIES-LE-5400
  • 日本大冢全光束测量系统 HM-SERIES 日本大冢全光束测量系统 HM-SERIES 日本大冢全光束测量系统 HM-SERIES
  • 日本大冢全光束测量系统 FM-SERIES 日本大冢全光束测量系统 FM-SERIES 日本大冢全光束测量系统 FM-SERIES
  • 日本大冢高速近场配光测量系统RH50 日本大冢高速近场配光测量系统RH50 日本大冢高速近场配光测量系统RH50
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  • 日本大冢量子效率测量系统QE-2100 日本大冢量子效率测量系统QE-2100 日本大冢量子效率测量系统QE-2100
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  • 界达电位OTSUKA大冢量子点评系统界达电位OTSUKA大冢量子点评系统 激光粒径分析仪 激光粒度仪 激光粒径仪 激光散射粒度分布仪 固体表面zeta电位 固体zeta电位 优良分子量测量 分子直径测量 分子量测量 粒度仪 粒径仪 粒度分析仪 粒度测定仪 zeta电位仪 zeta电位测试 zeta电位测量仪 zeta电位测试仪 纳米粒径分析仪 zeta电位测定仪 nanoSAQL 纳米粒度仪 ze
  • 界达电位OTSUKA大冢量子点评系统界达电位OTSUKA大冢量子点评系统 激光粒径分析仪 激光粒度仪 激光粒径仪 激光散射粒度分布仪 固体表面zeta电位 固体zeta电位 优良分子量测量 分子直径测量 分子量测量 粒度仪 粒径仪 粒度分析仪 粒度测定仪 zeta电位仪 zeta电位测试 zeta电位测量仪 zeta电位测试仪 纳米粒径分析仪 zeta电位测定仪 nanoSAQL 纳米粒度仪 ze
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  • OTSUKA大冢-量子点评系统 量子点材料具有根据粒子直径不同发光波长发生变化的特性。 在本系统中,在评价粒子直径以及分散稳定性的同时,也可以对荧光特性进行评价。 OTSUKA大冢-量子点评系统OTSUKA大冢-量子点评系统OTSUKA大冢-量子点评系统
  • 日本大冢低相位差高速检查设备RE-200 日本大冢低相位差高速检查设备RE-200 日本大冢低相位差高速检查设备RE-200
  • OTSUKA大冢液晶层间隙量测设备RETS series OTSUKA大冢液晶层间隙量测设备RETS series OTSUKA大冢液晶层间隙量测设备RETS series
  • 日本OTSUKA大冢相位差膜・光学材料检查设备RETS-100 日本OTSUKA大冢相位差膜・光学材料检查设备RETS-100 日本OTSUKA大冢相位差膜・光学材料检查设备RETS-100
  • 支持从反射/透射型 LCD 填充单元到带滤色器的空单元的各种单元
  • 非常适合FPD生产过程中的所有检测,如滤色片光学特性检测和玻璃基板膜厚检测。
  • “一步操作”是一种追求用户友好性的设备,无需任何繁重的工作,设置样品即可立即看到结果。 该设备旨在缩短检测过程,无需校准曲线即可高精度、高分辨率地轻松找到优良厚度。 由于使用了大冢电子开创的光学方法,因此可以在不接触的情况下高精度测量不透明、粗糙表面和容易变形的样品,同时节省空间。
  • 它以非接触方式测量晶片等的研磨和抛光过程,具有超高速、实时和高精度的晶片和树脂。
  • 除了可实现高精度薄膜分析的光谱椭偏仪外,我们还通过实施自动可变测量机制支持所有类型的薄膜。除了传统的旋转光子检测器方法外,还通过为延迟板提供自动安装/拆卸机制来提高测量精度。
  • 实现具有波长依赖性的高精度多层膜测量
  • 它是一种紧凑、低成本的薄膜厚度计,它通过简单的操作实现了高精度光学干涉测量的薄膜厚度测量。 我们采用一体式外壳,将必要的设备安装在主体中,实现了稳定的数据采集。 通过以低廉的价格获得**反射率,可以分析光学常数。
  • 它是一种通过使用显微光谱测量微小区域内的优良反射率,实现高精度膜厚和光学常数分析的设备。 可以以非破坏性和非接触的方式测量各种薄膜、晶片、光学材料和多层薄膜等镀膜的厚度。可进行1秒/点测量时间的高速测量。它还配备了软件,即使是初学者也可以轻松分析光学常数。
  • 能够从低亮度到高亮度进行高速、高精度测量的光谱辐射亮度计。 大冢电子独特的光谱光学设计和信号处理电路采用电子冷却线阵传感器,实现了在宽亮度范围和波长范围内的低噪声和高精度测量。
  • 支持紫外到近红外区域的多功能多通道光谱检测器。光谱光谱可以在*少 5 ms 内测量。标准光纤可以在不指定样品类型的情况下支持各种测量系统。除了显微光谱、光源发射、透射/反射测量外,还可以通过结合软件支持物体颜色评估、膜厚测量等。
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