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  • OTSUKA大冢-离散方式临床化学自动分析装置NS-Prime
    NS-Prime OTSUKA大冢-血球细胞去除用装置监视器 通过金胶体比色法，全自动航班中人海莫格罗宾分析装置可在航班中进行精密测量。 医疗机器备案号码27B1X00055000008OTSUKA大冢-离散方式临床化学自动分析装置NS-PrimeOTSUKA大冢-离散方式临床化学自动分析装置NS-PrimeOTSUKA大冢-离散方式临床化学自动分析装置NS-Prime
  • OTSUKA大冢-血球细胞去除用装置监视器MM6-N
    MM6-N OTSUKA大冢-血球细胞去除用装置监视器 动物监视器细胞细胞除去用净化器用细胞细胞除去为了进行使用的装置。 每分钟30毫升的低速稳定的流量也可以保证。 装置内各种传感器被编入，这些传感器异常敏感的**机构工作。OTSUKA大冢-血球细胞去除用装置监视器MM6-NOTSUKA大冢-血球细胞去除用装置监视器MM6-NOTSUKA大冢-血球细胞去除用装置监视器MM6-NOTSUKA大
  • OTSUKA大冢-医用机器POCone
    POCone OTSUKA大冢-医用机器 是测量在呼气中的二氧化碳的同位体比（13C / 12C）的变化量的红外光分析装置。OTSUKA大冢-医用机器POConeOTSUKA大冢-医用机器POConeOTSUKA大冢-医用机器POConeOTSUKA大冢-医用机器POCone
  • LCD评估装置（面板/模块检查） LCD系列 Otsuka
    LCD面板模组的电光特性
  • OTSUKA大冢- 高分子相结构分析系统ELSZ-2000S
    ELSZ-2000S OTSUKA大冢- 高分子相结构分析系统ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 高分子相结构分析系统ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 高分子相结构分析系统ELSZ-2000S
  • OTSUKA大冢- 毛细管电泳系统Agilent 7100
    Agilent 7100 OTSUKA大冢- 毛细管电泳系统 阳离子和阴离子等不同的成分可以用一台装置进行分析。 用微量样品可以进行短时间、高分辨率的分析。 OTSUKA大冢- 毛细管电泳系统Agilent 7100OTSUKA大冢- 毛细管电泳系统Agilent 7100OTSUKA大冢- 毛细管电泳系统Agilent 7100
  • OTSUKA大冢-高灵敏度示差折射计DRM-3000
    DRM-3000 OTSUKA大冢-高灵敏度示差折射计 可以根据静光散射法的重量平均分子量决定的dn / dc测量。 OTSUKA大冢-高灵敏度示差折射计DRM-3000OTSUKA大冢-高灵敏度示差折射计DRM-3000OTSUKA大冢-高灵敏度示差折射计DRM-3000
  • OTSUKA大冢- 静态光散射光度计SLS-6500HL
    SLS-6500HL OTSUKA大冢- 静态光散射光度计 可以测量使用静光散射法的**分子量、惯性半径、**胆量系数。 OTSUKA大冢- 静态光散射光度计SLS-6500HLOTSUKA大冢- 静态光散射光度计SLS-6500HLOTSUKA大冢- 静态光散射光度计SLS-6500HL
  • OTSUKA大冢- 自动桑普勒浓厚系颗粒直径FPAR-1000AS
    FPAR-1000AS OTSUKA大冢- 自动桑普勒浓厚系颗粒直径 FPAR和自动取景器的组合中，关于50检体的试料，可以进行粒子直径的自动测量。 样品量为1ml，可以使用廉价的电筒进行测量。 OTSUKA大冢- 自动桑普勒浓厚系颗粒直径FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自动桑普勒浓厚系颗粒直径FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自动桑普勒浓厚系颗粒直径FPAR-100
  • OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统FPAR-1000
    FPAR-1000 OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统 从稀薄系到浓厚系，在广泛的浓度区域中的粒子直径测量 *适合分析胶体分散液和拉拉力的分散状态。 OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统FPAR-1000OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统FPAR-1000OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统FPAR-1000
  • OTSUKA大冢- 光纤光学动态光散射光度计FDLS-3000
    FDLS-3000 OTSUKA大冢- 光纤光学动态光散射光度计 根据固体激光和高灵敏度检测器（冷却型光电子倍增管），可以测量0.5nm～5000 nm的粒子直径和粒子直径分布（粒径·粒径分布）。OTSUKA大冢- 光纤光学动态光散射光度计FDLS-3000OTSUKA大冢- 光纤光学动态光散射光度计FDLS-3000OTSUKA大冢- 光纤光学动态光散射光度计FDLS-3000
  • OTSUKA大冢- 动态光散射光度计DLS-6500series
    DLS-6500series OTSUKA大冢- 动态光散射光度计 可测量使用动态光散射法的粒子直径、粒子直径分布（粒径、粒径分布）。 OTSUKA大冢- 动态光散射光度计DLS-6500seriesOTSUKA大冢- 动态光散射光度计DLS-6500seriesOTSUKA大冢- 动态光散射光度计DLS-6500series
  • OTSUKA大冢- 粒径·分子量测量系统ELSZ-2000S
    ELSZ-2000S OTSUKA大冢- 粒径·分子量测量系统ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 粒径·分子量测量系统ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 粒径·分子量测量系统ELSZ-2000S
  • OTSUKA大冢- 多检体纳米粒子直径测量系统nanoSAQLA
    nanoSAQLA OTSUKA大冢- 多检体纳米粒子直径测量系统nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多检体纳米粒子直径测量系统nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多检体纳米粒子直径测量系统nanoSAQLA
  • OTSUKA大冢- 动态光散射光度计DLS-8000series
    DLS-8000series OTSUKA大冢- 动态光散射光度计 用动态光散射法的粒子直径·粒子直径分布（粒径·粒径分布）测量和使用静光散射法的优良分子量·惯性半径·**胆量系数的测量。OTSUKA大冢- 动态光散射光度计DLS-8000seriesOTSUKA大冢- 动态光散射光度计DLS-8000series
  • OTSUKA大冢- 粒径·分子量测量系统ELSZ-2000S
    ELSZ-2000S OTSUKA大冢- 电位测量系统 OTSUKA大冢- 粒径·分子量测量系统ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 粒径·分子量测量系统ELSZ-2000S
  • 聚合物相结构分析系统PP-1000Otsuka大冢
    它是一种可以使用小角度光散射方法在原位实时分析聚合物和薄膜结构的设备。与使用 X 射线或中子的设备相比，可以评估更大的结构（微米级）。
  • 毛细管电泳Agilent 7100Otsuka大冢
    可以使用单个设备分析不同的组分，例如阳离子和阴离子。 使用少量样品即可进行短时间、高分辨率的分析。
  • 示差折光仪Otsuka大冢苏州售
    可以通过静态光散射法测量 dn/dc 来确定重均分子量。
  • 静态光散射光度计 SLS-6500HLOtsuka大冢
    优良分子量、惯性半径和**维里系数可以使用静态光散射方法测量。
  • 动态光散射光度计DLS-8000Otsuka大冢
    可以使用动态光散射法和使用静态光散射法测量优良分子量/惯性半径/**维里系数的粒度/粒度分布（粒度/粒度分布）。
  • OTSUKA大冢- 高灵敏度分光放射輝度計HS-1000
    HS-1000 OTSUKA大冢-高灵敏度分光放射輝度計 从低亮度到高亮度可以高速·高精度的测量的分光辐射亮度计。 使用电子冷却型的线性阵列传感器，通过大冢电子独自的分光光学设计和信号处理电路的宽亮度范围和波长域，实现了低噪声的高精度的测量。OTSUKA大冢- 高灵敏度分光放射輝度計HS-1000OTSUKA大冢- 高灵敏度分光放射輝度計HS-1000OTSUKA大冢- 高灵敏度分光放射輝度
  • OTSUKA大冢- 多通道分光器MCPD-9800/6800
    MCPD-9800/6800 OTSUKA大冢- 多通道分光器MCPD-9800/6800OTSUKA大冢- 多通道分光器MCPD-9800/6800OTSUKA大冢- 多通道分光器MCPD-9800/6800
  • 参考测量装置 RETS-100nx Otsuka
    它是一种延迟测量设备，支持所有类型的薄膜，例如用于 OLED 的偏光板、层压延迟膜和带有 IPS 液晶延迟膜的偏光板。 实现与超高Re.60000 nm兼容的高速、高精度测量。 可以“无损、无剥离”地测量薄膜的层压状态。 此外，它还配备了简单的软件和校正功能，支持因样品重新定位而导致的错位，可轻松实现高精度测量。
  • 膜厚测量系统 FE-3700 / 5700 Otsuka大冢
    评估和分析不断发展的 FPD 制造过程中的各种薄膜
  • 装载端口兼容薄膜厚度测量系统 GS-300Otsuka
    它是一个具有模式匹配功能和 2um 或更小的 XY 定位精度的系统。
  • 晶圆测厚仪SF-3Otsuka大冢苏州售
    在晶圆等的研磨研磨工序中，以超高速、高精度无接触地测量晶圆和树脂的厚度。
  • 线扫描测厚仪离线式 Otsuka大冢
    是一种可以方便地离线检测面内膜厚不均匀性的设备，用于膜的研发和质量控制的抽检。 可以高速且高精度地测量整个表面。
  • 线扫描测厚仪在线式 Otsuka大冢
    它是一种可以在薄膜生产现场在线测量薄膜厚度的设备。 通过将开创的光谱干涉技术与新开发的高精度膜厚计算处理技术相结合，可以以至少0.01的测量间隔测量宽度为500mm（使用一台时）的膜厚秒。
  • 日本大冢多通道分光光谱仪MCPD-6800
    日本大冢多通道分光光谱仪MCPD-6800 日本大冢多通道分光光谱仪MCPD-6800 日本大冢多通道分光光谱仪MCPD-6800
  • 日本大冢多通道分光光谱仪MCPD-9800
    日本大冢多通道分光光谱仪MCPD-9800 日本大冢多通道分光光谱仪MCPD-9800 日本大冢多通道分光光谱仪MCPD-9800
  • 日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000S
    日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000S 日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000S日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000S
  • 日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000
    日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000日本大冢嵌入式膜厚仪FE-5000
  • 日本大冢膜厚量测仪FE-300
    日本大冢膜厚量测仪FE-300 日本大冢膜厚量测仪FE-300 日本大冢膜厚量测仪FE-300
  • 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪
    日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/BB 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/BB 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/BB
  • 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪
    日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/1300 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/1300 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/1300
  • 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪
    日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/300 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/300 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/300
  • 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪
    日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/200 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/200 日本大冢超高速分光干渉式膜厚仪SF-3/200
  • 日本大冢分光干渉式晶圆膜厚仪
    日本大冢分光干渉式晶圆膜厚仪SF-3 日本大冢分光干渉式晶圆膜厚仪SF-3 日本大冢分光干渉式晶圆膜厚仪SF-3
  • 日本大冢在线型线扫描膜厚仪
    日本大冢在线型线扫描膜厚仪 日本大冢在线型线扫描膜厚仪 日本大冢在线型线扫描膜厚仪
  • 日本大冢线扫描膜厚仪离线型
    日本大冢线扫描膜厚仪离线型 日本大冢线扫描膜厚仪离线型 日本大冢线扫描膜厚仪离线型
  • 日本大冢在线膜厚检测装置
    日本大冢在线膜厚检测装置 日本大冢在线膜厚检测装置 日本大冢在线膜厚检测装置
  • 日本大冢显微分光OPTM SERIES膜厚仪
    日本大冢显微分光OPTM SERIES膜厚仪OPTM-A3 日本大冢显微分光OPTM SERIES膜厚仪OPTM-A3 日本大冢显微分光OPTM SERIES膜厚仪OPTM-A3
  • 日本大冢显微分光膜厚仪OPTM SERIES
    日本大冢显微分光膜厚仪OPTM SERIESOPTM-A2 日本大冢显微分光膜厚仪OPTM SERIESOPTM-A2 日本大冢显微分光膜厚仪OPTM SERIESOPTM-A2
  • 日本大冢OPTM SERIES显微分光膜厚仪
    日本大冢OPTM SERIES显微分光膜厚仪OPTM-A1 日本大冢OPTM SERIES显微分光膜厚仪OPTM-A1 日本大冢OPTM SERIES显微分光膜厚仪OPTM-A1
  • 多通道光谱仪MCPD系列膜厚测量
    多通道光谱仪MCPD系列膜厚测量MCPD-7700 多通道光谱仪MCPD系列膜厚测量MCPD-7700 多通道光谱仪MCPD系列膜厚测量MCPD-7700
  • 膜厚测量MCPD系列多通道光谱仪
    膜厚测量MCPD系列多通道光谱仪MCPD-3700 膜厚测量MCPD系列多通道光谱仪MCPD-3700 膜厚测量MCPD系列多通道光谱仪MCPD-3700
  • MCPD系列膜厚测量多通道光谱仪
    MCPD系列膜厚测量多通道光谱仪MCPD-9800 MCPD系列膜厚测量多通道光谱仪MCPD-9800 MCPD系列膜厚测量多通道光谱仪MCPD-9800
  • 非接触式光学膜厚仪
    非接触式光学膜厚仪AT-5000 非接触式光学膜厚仪AT-5000 非接触式光学膜厚仪AT-5000
  • 非接触式光学膜厚仪
    非接触式光学膜厚仪AT-1500 非接触式光学膜厚仪AT-1500 非接触式光学膜厚仪AT-1500
  • OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-5700
    FE-5700 OTSUKA大冢-膜厚测量系统 OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-5700OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-5700
  • OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-3700
    FE-3700 OTSUKA大冢-膜厚测量系统 OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-3700OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-3700OTSUKA大冢-膜厚测量系统FE-3700
  • OTSUKA大冢-高速近场配光测量系统RH50
    RH50 OTSUKA大冢-高速近场配光测量系统 对应微LED等微小样品的配光测定系统RH50.。 与光学模拟软件的联合是可能的，可以简单地高速取得2π空间全方位的光线。50×50mm尺寸以上请看GP-7 series。OTSUKA大冢-高速近场配光测量系统RH50OTSUKA大冢-高速近场配光测量系统RH50
  • OTSUKA大冢-高速晶圆厚度映射系统SF-3Rθ
    SF-3Rθ OTSUKA大冢-高速晶圆厚度映射系统 *多可以快速映射12inch晶片OTSUKA大冢-高速晶圆厚度映射系统SF-3RθOTSUKA大冢-高速晶圆厚度映射系统SF-3RθOTSUKA大冢-高速晶圆厚度映射系统SF-3Rθ
  • OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3Rθ
    SF-3Rθ OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统 搭载模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系统。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3RθOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3RθOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3Rθ
  • OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AAF
    SF-3AAF OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统 搭载模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系统。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AAF
  • OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AA
    SF-3AA OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统 搭载模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系统。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AAOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AAOTSUKA大冢-晶片厚度映射系统SF-3AA
  • OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统GS-300
    GS-300 OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统 搭载模式匹配功能，X-Y定位精度在2um以下的系统。OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统GS-300OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统GS-300OTSUKA大冢-负载端口对应膜厚测量系统GS-300
  • OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/200
    　SF-3/200 OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计 用非接触的温哈和树脂的超高速实时、高精度的测量。OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/200
  • OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/300
    　SF-3/300 OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计 用非接触的温哈和树脂的超高速实时、高精度的测量。OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干扰式厚度计SF-3/300
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